紫外光臭氧清洗系统 themis深度紫外臭氧清洗与反应系统，是一部应用深度紫外辐射（主要光波是184.9nm及253.7nm）达到表面原子级洁净以及对物件产生光清洗、光化学反应、光改质等效应的科学设备，由中科院与芬兰专家合作设计，重要部件的制造以及调校由航天部工程师亲自完成。 产品参数介绍： 型号 uvo-4 uvo-8 uv光波 153.5nm和184.9nm 清洗面积 12cm×12cm（4.5inch） 20cm×20cm（8inch） 光照强度 高达50mw/cm2，实时显示 时间设置 0-9999s任意设置，实时数字显示 温度监视 精度0.1℃，实时数字显示，可平滑控制 物台调高 范围：0mm～35mm，精度：1mm 灯管材质 固态金属双波灯 灯管功率 125w 250w 灯管形状 格栅式灯管 灯管寿命 10000 小时 整机尺寸 550mm宽×310mm高×670mm长 警示保护功能 有 臭氧排风系统 有 电源参数 220v/ac/50hz 整机功率 150w 280w 整机重量 25kg 应用领域 ito玻璃、光学玻璃、铬板、掩膜板、抛光石英晶体、硅晶片和带有氧化膜的金属等进行精密清洗处理，液晶显示器件、半导体硅晶片、集成电路、高精度印制电路板、光学器件、石英晶体、密封技术、带氧化膜的金属材料等有机物去除，有机性污垢、人体皮脂、化妆品、树脂添加剂及聚酰亚胺、石蜡、松香、润滑油、残余的光刻胶等。还能对特定材料进行表面改性，增加浸润性。