紫外光臭氧清洗系统
themis深度紫外臭氧清洗与反应系统,是一部应用深度紫外辐射(主要光波是184.9nm及253.7nm)达到表面原子级洁净以及对物件产生光清洗、光化学反应、光改质等效应的科学设备,由中科院与芬兰专家合作设计,重要部件的制造以及调校由航天部工程师亲自完成。
产品参数介绍:
型号 uvo-4 uvo-8
uv光波 153.5nm和184.9nm
清洗面积 12cm×12cm(4.5inch) 20cm×20cm(8inch)
光照强度 高达50mw/cm2,实时显示
时间设置 0-9999s任意设置,实时数字显示
温度监视 精度0.1℃,实时数字显示,可平滑控制
物台调高 范围:0mm~35mm,精度:1mm
灯管材质 固态金属双波灯
灯管功率 125w 250w
灯管形状 格栅式灯管
灯管寿命 10000 小时
整机尺寸 550mm宽×310mm高×670mm长
警示保护功能 有
臭氧排风系统 有
电源参数 220v/ac/50hz
整机功率 150w 280w
整机重量 25kg
应用领域 ito玻璃、光学玻璃、铬板、掩膜板、抛光石英晶体、硅晶片和带有氧化膜的金属等进行精密清洗处理,液晶显示器件、半导体硅晶片、集成电路、高精度印制电路板、光学器件、石英晶体、密封技术、带氧化膜的金属材料等有机物去除,有机性污垢、人体皮脂、化妆品、树脂添加剂及聚酰亚胺、石蜡、松香、润滑油、残余的光刻胶等。还能对特定材料进行表面改性,增加浸润性。
供应紫外臭氧清洗机uv清洗机紫外光清洗机紫外线清洗机
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- 机械设备
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- uvo-4
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